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真空电镀的特点

1、真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um)，能够严格出啤件表面的形。

2、工作电压不是很高(200V)，操作方便，但设备较昂贵。

3、蒸镀锅瓶容积小，电镀件出数少，生产效率较低。

4、只限于比钨丝熔点低的金属(如铝、银、铜、金等)镀饰。

5、对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷。

6、真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS、PC等

真空电镀工艺

真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。

加热金属的方法：可以利用电阻产生的热能，也可以利用电子束。

在对塑料制品实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，必须对蒸镀时间进行调整。此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。

置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。

在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（ 10-5Pa ）。真空电镀属于镀膜工艺的新发展，那么真空电镀的应用范围到底有多广呢。

镀层厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%。

　　电镀工艺管理是电镀生产中的一个重要的环节,它的确定是电镀工作者经过数千万次的反复试验研究得到的,因此,电镀工艺具有很强的科学性。工艺的确定不仅要考虑到镀层沉积速率、阴阳极的电流效率、金属离子溶解和沉积的平衡,还要考虑到ｐＨ值的稳定性,温度和电流密度范围的宽广性、以及出光速率、整平性能、光亮范围等多方面的综合而制定的。因此,我们必须要十分重视工艺中规定的各种技术参数,只有这样才能保证镀出好的镀层。关于电镀厂的加热节能设备的方法如处理方式为以下两种：直接加热：特性：采用不锈钢、纯钛、特佛龙等换热器直接加热槽液，自动控温，无换热温差，温度平均。