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真空电镀电镀金的原理：

1、当电源加在铂金钛网(阳极)和硅片(阴极)之间时，溶液会产生电流，并形成电场。阳极发生氧化反应释放出电子，同时阴极得到电子发生还原反应。

　　2、阴极附近的络合态金离子与电子结合，以金原子的形式沉积在硅片表面。镀液中的络合态金离子在外加电场的作用，向阴极定向移动并补充阴极附近的浓度消耗。

　　3、电镀的主要目的是在硅片上沉积一层致密、均匀、无孔洞、无缝隙、无其它缺陷的金。

　　电镀金的性能特点：

　　1、高导电性；

　　2、那腐蚀、耐磨性；

　　3、抗变色性；

　　4、良好的焊接性能；

　　5、优良的延展性；

　　6、优良反射性能红外线；

　　7、低接触电阻

　　电镀工艺管理是电镀生产中的一个重要的环节,它的确定是电镀工作者经过数千万次的反复试验研究得到的,因此,电镀工艺具有很强的科学性。工艺的确定不仅要考虑到镀层沉积速率、阴阳极的电流效率、金属离子溶解和沉积的平衡,还要考虑到ｐＨ值的稳定性,温度和电流密度范围的宽广性、以及出光速率、整平性能、光亮范围等多方面的综合而制定的。因此,我们必须要十分重视工艺中规定的各种技术参数,只有这样才能保证镀出好的镀层。搅拌的影响真空电镀厂概述，搅拌可降低阴极极化﹐使晶粒变粗﹐但可提高电流密度﹐从而提高生产率。

真空电镀的应用领域

真空电镀技术在装饰品方面的应用：随着经济的发展和生活水平的提高，人们喜欢将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室内外装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五彩缤纷。

真空电镀技术在平板显示器中的应用：真空电镀所有各类平板显示器都要用到各种类型的薄膜，而且几乎所有类型的平板显示器件都需要使用ITO膜，真空电镀以满足透明电器的要求。可以毫不夸张的说：没有薄膜技术就没有平板显示器件。

真空电镀技术在太阳能利用方面的应用：当需要有效地利用太阳热能时，真空电镀就要考虑采用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所引起的损耗较小的吸收面。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20?m之间的红外波段。真空电镀理想的选择吸收面是太阳辐射光谱的波段(可见光波段)吸收率(α)为1，真空电镀在热辐射波段(红外波段)辐射率(ε)为0。镀银，银延展性好，便于钎焊，具有极强的反光能力和电导率，增加商品的美感4。

一、真空电镀加工电镀工艺优势

为了保证封装工艺中装片/键合性能，使芯片和金丝与引线框架形成良好的扩散焊接，引线框架的装片/键合区域（内引线脚上和小岛）一般要求压印，然后在上面电镀。通过精压可以形成一个光滑致密的表面以获得高质量的镀层，同时提供一个充足平坦的键合点区域。镀层的质量直接影响装片和金丝的键合强度，从而终影响产品的成品率和可靠性。(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

二、在真空电镀加工工作方式主要有两种，真空蒸镀与真空溅镀。下面简单介绍一下这两种方式。

真空蒸镀是将工件装入电镀机内，然后将室内空气抽走，达到一定的真空度后，将室内的钨丝通电加热。当达到一定的温度后，钨丝上所放置的金属丝气化，然后随着室内的工件的转动均匀的沉积在工件表面，形成金属膜。一般常见的电镀用金属有铝、镍、铜等等。3、电镀的主要目的是在硅片上沉积一层致密、均匀、无孔洞、无缝隙、无其它缺陷的金。但由于熔点，工艺控制等方面的原因，镀铝成为的做法。

真空溅镀主要利用辉光防电将ya气AR离子撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来得好，但是镀膜速度却比蒸镀慢的多。新型的溅镀设备几乎都是用磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围ya气离子化，造成靶与ya气离子间的撞击几率增加，提高溅镀速率。水电镀是镀件本身是导体，接阴极，镀液里的Ni离子在镀件表面得电子生成金属镀层。