塑胶真空电镀厂-塑胶真空电镀-南新工艺装饰品制造(查看)

真空电镀厂介绍影响电镀质量的因素

真空电镀厂介绍，影响电镀质量的因素很多﹐包括镀液的各种成分以及各种电镀工艺参数。利用电解池原理在机械制品上沉积出附着良好的、但性能和基体材料不同的金属覆层的技术。下面就其中某些主要因素进行讨论。=

pH值的影响

镀液中的pH值可以影响氢的放电电位﹐碱性夹杂物的沉淀﹐还可以影响络合物或水化物的组成以及添加剂的吸附程度。通过加入缓冲剂可以将pH值稳定在一定范围。

添加剂的影响

真空电镀厂阐述，镀液中的光亮剂﹐整平剂﹐润湿剂等添加剂能明显改善镀层***。

电流密度的影响

任何电镀都必须有一个能产生正常镀层的电流密度范围。当电流密度过低时﹐阴极极化作用较小﹐镀层桔晶粗大﹐甚至没有镀层。随着电流密度的增加﹐阴极极化作用随着增加﹐镀层晶粒越来越细。

搅拌的影响

真空电镀厂概述，搅拌可降低阴极极化﹐使晶粒变粗﹐但可提高电流密度﹐从而提高生产率。此外搅拌还可增强整平剂的效果。

真空电镀厂介绍真空镀膜的均匀性

真空电镀厂介绍，真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，塑胶真空电镀厂，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。 并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义，下面分别说一下：

均匀性主要体现在3方面：

一.真空电镀厂阐述，厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在。

二.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，塑胶真空电镀底油，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，塑胶真空电镀，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。

三.真空电镀厂概述，塑胶真空电镀工艺，晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题。

　　详解电镀加工后处理的除氢方法！氢脆在工程上是一种比较普遍的现象，尤其在加工生产过程中极易导致金属材料产生氢脆，电镀过程中的氢脆主要发生在酸洗、电镀等工序中。因此许多制件在进行电镀加工后，都会进行去氢处理，避免氢脆而导致的危害。

　　1、一般除氢方法

　　(1)将需除氢的镀件放在烘箱内（放在真空炉内)，或在热油中(适用于镀硬铬件)，在200~250℃下处理3H以上。

　　(2)热油中除氢能获得与在烘箱中除氢具有同样的效果，由于其受热均匀，对镀层还具有填充孔隙的作用，有利于提高镀层的防护功能，对设备要求也简单。